Dostosuj preferencje dotyczące zgody

Używamy plików cookie, aby pomóc użytkownikom w sprawnej nawigacji i wykonywaniu określonych funkcji. Szczegółowe informacje na temat wszystkich plików cookie odpowiadających poszczególnym kategoriom zgody znajdują się poniżej.

Pliki cookie sklasyfikowane jako „niezbędne” są przechowywane w przeglądarce użytkownika, ponieważ są niezbędne do włączenia podstawowych funkcji witryny.... 

Zawsze aktywne

Niezbędne pliki cookie mają kluczowe znaczenie dla podstawowych funkcji witryny i witryna nie będzie działać w zamierzony sposób bez nich.Te pliki cookie nie przechowują żadnych danych umożliwiających identyfikację osoby.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Funkcjonalne pliki cookie pomagają wykonywać pewne funkcje, takie jak udostępnianie zawartości witryny na platformach mediów społecznościowych, zbieranie informacji zwrotnych i inne funkcje stron trzecich.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Analityczne pliki cookie służą do zrozumienia, w jaki sposób użytkownicy wchodzą w interakcję z witryną. Te pliki cookie pomagają dostarczać informacje o metrykach liczby odwiedzających, współczynniku odrzuceń, źródle ruchu itp.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Wydajnościowe pliki cookie służą do zrozumienia i analizy kluczowych wskaźników wydajności witryny, co pomaga zapewnić lepsze wrażenia użytkownika dla odwiedzających.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Reklamowe pliki cookie służą do dostarczania użytkownikom spersonalizowanych reklam w oparciu o strony, które odwiedzili wcześniej, oraz do analizowania skuteczności kampanii reklamowej.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Rapidus przyspiesza rozwój procesu 2 nm

Japoński producent półprzewodników zapowiada instalację dziesięciu maszyn litograficznych EUV w dwóch fabrykach, aby rozpocząć masową produkcję w zaawansowanym procesie 2 nm.

Rapidus, wspierany przez japoński rząd, realizuje ambitne plany rozwoju sektora półprzewodników. Firma ma w planach zainstalowanie dziesięciu zaawansowanych maszyn litograficznych EUV (Extreme Ultraviolet) w swoich zakładach IIM-1 i IIM-2, powstających w ramach rozbudowy infrastruktury. Według informacji podanych przez Nikkan Kogyo Shimbun dyrektor generalny Rapidus, Atsuyoshi Koike, potwierdził, że pierwsze urządzenia tego typu już dotarły do Japonii pod koniec 2024 roku i zostały rozładowane na lotnisku New Chitose. Byłoby to zarazem pierwsze wdrożenie technologii EUV w kraju.

Producent zamierza skoncentrować się na wprowadzaniu procesu 2 nm, co stanowi istotny krok w dążeniu do masowego wytwarzania chipów o bardzo wysokiej gęstości tranzystorów. Według wcześniejszych doniesień Rapidus ma rozpocząć próbną produkcję w kwietniu 2025 roku, a do czerwca tego planuje dostarczenie pierwszych próbek amerykańskiemu gigantowi Broadcom. Masowa produkcja w nowej fabryce ruszyć ma w 2027 roku.

Tymczasem w sektorze zaawansowanych półprzewodników rywalizacja nabiera tempa. TSMC, uważany za światowego lidera w tej branży, zamierza podnieść swoje nakłady inwestycyjne do 38–42 miliardów dolarów w 2025 roku, co stanowi nawet 40-procentowy wzrost rok do roku. Tajwańska spółka spodziewa się rozpocząć masową produkcję w procesie 2 nm już w 2025 roku, a wśród jej pierwszych klientów wymienia się takie marki jak Apple, NVIDIA, AMD czy Qualcomm.

Z kolei Samsung, choć pojawiły się pogłoski o zmniejszeniu wydatków na rozwój foundry nawet o połowę, zamierza przekształcić część linii 3 nm w 2 nm.

W międzyczasie Intel ogłosił rezygnację z procesu 20A, ale jednocześnie pierwszy układ oparty na technologii Intel 18A – procesor Panther Lake – ma trafić na rynek w drugiej połowie 2025 roku. Ta zapowiedź pokazuje, że koncern z Santa Clara również planuje dalszą walkę o dominację w segmencie najbardziej zaawansowanej litografii.