Dostosuj preferencje dotyczące zgody

Używamy plików cookie, aby pomóc użytkownikom w sprawnej nawigacji i wykonywaniu określonych funkcji. Szczegółowe informacje na temat wszystkich plików cookie odpowiadających poszczególnym kategoriom zgody znajdują się poniżej.

Pliki cookie sklasyfikowane jako „niezbędne” są przechowywane w przeglądarce użytkownika, ponieważ są niezbędne do włączenia podstawowych funkcji witryny.... 

Zawsze aktywne

Niezbędne pliki cookie mają kluczowe znaczenie dla podstawowych funkcji witryny i witryna nie będzie działać w zamierzony sposób bez nich.Te pliki cookie nie przechowują żadnych danych umożliwiających identyfikację osoby.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Funkcjonalne pliki cookie pomagają wykonywać pewne funkcje, takie jak udostępnianie zawartości witryny na platformach mediów społecznościowych, zbieranie informacji zwrotnych i inne funkcje stron trzecich.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Analityczne pliki cookie służą do zrozumienia, w jaki sposób użytkownicy wchodzą w interakcję z witryną. Te pliki cookie pomagają dostarczać informacje o metrykach liczby odwiedzających, współczynniku odrzuceń, źródle ruchu itp.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Wydajnościowe pliki cookie służą do zrozumienia i analizy kluczowych wskaźników wydajności witryny, co pomaga zapewnić lepsze wrażenia użytkownika dla odwiedzających.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

Reklamowe pliki cookie służą do dostarczania użytkownikom spersonalizowanych reklam w oparciu o strony, które odwiedzili wcześniej, oraz do analizowania skuteczności kampanii reklamowej.

Brak plików cookie do wyświetlenia.

ASML niedługo dostarczy pierwszą maszynę drugiej generacji High-NA EUV

High-NA EUV ASML

ASML, holenderski gigant w dziedzinie technologii litograficznych, wkrótce dostarczy pierwszą maszynę drugiej generacji High-NA EUV. Odbiorcą sprzętu będzie Intel, który planuje rozpoczęcie produkcji w procesie 14A już w 2026 roku. TSMC również przygląda się nowej technologii, jednak jej wdrożenie w masowej skali planowane jest na 2028 rok.

ASML, kluczowy dostawca technologii litograficznych dla największych producentów chipów, potwierdził dostarczenie pierwszych modułów nowej maszyny TwinScan EXE:5200 w nadchodzących miesiącach. Informację tę przekazał CEO firmy, Christophe Fouquet, a potwierdziło ją holenderskie źródło Tweakers.

EXE:5200 to maszyna litograficzna drugiej generacji z optyką High-NA EUV, umożliwiająca pracę na poziomie procesów sub-2 nm. Nowy model ma zapewnić większą przepustowość niż poprzednik EXE:5000, który już osiągał wydajność przekraczającą 185 wafli na godzinę. Pierwszym odbiorcą będzie Intel, który wykorzysta tę technologię do produkcji układów w technologii 14A.

Intel i TSMC – różne harmonogramy wdrożenia
Intel ma być pierwszym producentem, który wdroży nową maszynę w produkcji na dużą skalę. Planowane uruchomienie procesu 14A w 2026 roku oznacza, że amerykański gigant półprzewodnikowy nie zwalnia tempa w walce o dominację w segmencie chipów nowej generacji. TSMC, główny konkurent Intela, planuje rozpocząć masowe wykorzystanie technologii High-NA dopiero w 2028 roku.

High-NA EUV ASML EXE:5000

Kolejnym krokiem ASML mogą być maszyny Hyper-NA EUV, których apertura numeryczna wynosiłaby 0,75, co byłoby kolejnym skokiem technologicznym w precyzji litografii. Firma jednak nie podjęła jeszcze ostatecznej decyzji w tej sprawie. Według Tweakers potencjalna komercjalizacja tej technologii mogłaby nastąpić dopiero około 2032 roku.

Mimo niepewnej sytuacji gospodarczej ASML utrzymuje optymistyczne prognozy finansowe. Przewidywana sprzedaż w 2025 roku ma wynieść od 30 do 35 miliardów euro, co oznacza wzrost o 7-25% względem 28,3 miliarda euro w 2024 roku.

Czwarty kwartał 2024 roku ujawnił ciekawe zmiany na rynku – USA stały się największym rynkiem ASML, odpowiadając za 28% sprzedaży, nieznacznie wyprzedzając Chiny. Wynika to głównie z ekspansji TSMC w Arizonie oraz zakupów Intela, który nabył dwie nowe maszyny High-NA EUV o wartości 400 milionów dolarów każda.