Firma SMIC miała opracować węzeł 5 nm bez EUV 

Z wielu doniesień wynika, że firma SMIC w końcu opracowała własny węzeł 5 nm, wykorzystując wyłącznie DUV. Nowinka ma zadebiutować wraz z nowymi chipami Kirin jeszcze w tym roku. 

SMIC, główny chiński konkurent firm TSMC i Samsung Foundry, z powodzeniem opracował węzeł wykonany w procesie technologicznym 7 nm, który następnie wykorzystano do produkcji układów Kirin 9000 i Kirin 9010, jak podają media.

Od dawna krążyły pogłoski, że firma SMIC pracowała nad jego wariantem wykonanym w procesie technologicznym 5 nm. Choćby z raportu Business Korea wynika, że został on pomyślnie opracowany.

Węzeł SMIC 5 nm opiera się wyłącznie na technologii DUV (głębokiego ultrafioletu) ostatnich dziesięciu, a nie na najnowocześniejszej technologii EUV (ekstremalne ultrafioletowe) ze względu na utrzymujące się sankcje.

Chociaż wyczyn jest imponujący, początkowa wydajność będzie poniżej normy, ponieważ ryzyko niepowodzenia wzrasta multiplikatywnie z każdym przejściem lasera DUV. Dlatego jest prawdopodobne, że węzeł 5 nm nie będzie wykorzystywany w zastosowaniach komercyjnych, przynajmniej początkowo.

Nie ma możliwości potwierdzenia tej wiadomości, ponieważ SMIC raczej nie wyda publicznego oświadczenia w tej sprawie. Gdyby firma tak postąpiła, mogłaby zwrócić na siebie większą uwagę USA, co prawie na pewno pociągnęłoby za sobą jeszcze bardziej wyniszczające sankcje.