Gelsinger dołącza do xLight: Rewolucja w litografii EUV na horyzoncie?

Pat Gelsinger, były szef Intela, objął stanowisko przewodniczącego wykonawczego (executive chairman) w startupie xLight, który pracuje nad technologią laserów na swobodnych elektronach (FEL) dla systemów litografii EUV. Firma twierdzi, że ich rozwiązanie zapewni czterokrotnie wyższą moc niż obecne systemy.

„Będę współpracował z Nicholasem Kelezem i całym zespołem nad budową najpotężniejszych na świecie laserów na swobodnych elektronach z wykorzystaniem technologii akceleratorów cząstek” – napisał Gelsinger w swoim poście na LinkedIn.

xLight zapewnia, że ich źródło światła wytwarzanego przez plazmę laserową (LPP) osiąga moc przekraczającą 1000 W, podczas gdy najnowocześniejsze komercyjne systemy ASML oferują około 300 W. Co ciekawe, podobne podejście wykorzystujące akceleratory cząstek w litografii EUV było już wcześniej rozważane przez Chiny. We wrześniu 2023 roku Chińczycy ogłosili plany budowy ogromnej fabryki chipów napędzanej właśnie akceleratorem cząstek. W ramach projektu prowadzonego przez naukowców z Uniwersytetu Tsinghua ma powstać akcelerator o obwodzie 100-150 metrów, generujący wysokiej jakości źródło światła do produkcji chipów.

Chińscy badacze rozwijają tę technologię od 2017 roku, wykorzystując mechanizm znany jako „steady-state microbunching” (SSMB), który został po raz pierwszy opisany przez profesora Zhao Wu ze Stanfordu w 2010 roku. Technologię tę z powodzeniem zademonstrowano w berlińskich laboratoriach Metrological Light Source w 2019 roku.

Wracając jednak do xLight – według Gelsingera ich technologia może zmniejszyć koszt produkcji pojedynczej płytki krzemowej nawet o połowę oraz trzykrotnie obniżyć wydatki kapitałowe i operacyjne. Dla porównania – obecne systemy litograficzne EUV produkowane przez ASML kosztują około 240-250 milionów dolarów za sztukę. Znaczące obniżenie tych kosztów mogłoby otworzyć dostęp do zaawansowanej produkcji półprzewodników dla szerszego grona firm.

xLight widzi potencjalne zastosowania swojej technologii również poza produkcją chipów. Firma uważa, że ich systemy mogłyby znaleźć zastosowanie w narzędziach metrologicznych i inspekcyjnych o wysokiej mocy, a także w obszarach bezpieczeństwa narodowego, kontroli śmieci kosmicznych, obrazowania medycznego czy badań naukowych.