Japoński gigant sprzętowy TEL okazuje się głównym beneficjentem wzrostu zamówień EUV

Podczas gdy czołowe firmy EUV mają prawie 100% udziału w rynku w tym sektorze, TEL, dzięki ścisłej współpracy z liderem branży w procesie powlekania/rozwoju, może również dominować w tej dziedzinie.

Według raportu Commercial Times referowanego przez TrendForce, Tokyo Electron (TEL), wiodący światowy producent sprzętu półprzewodnikowego, jest jedyną firmą na świecie posiadającą sprzęt do czterech kolejnych procesów: osadzania, powlekania/wywoływania, trawienia i czyszczenia, które są kluczowe etapy, zanim płytki zostaną poddane procesowi litografii EUV.

W miarę ciągłego rozwoju węzłów półprzewodnikowych japoński gigant półprzewodników odniósłby znaczne korzyści z tego trendu dzięki swojej rozbudowanej ofercie produktów.

Hiromitsu Kambara, prezes i dyrektor przedstawicielski TEL Miyagi Ltd. w TEL, stwierdził, że w miarę ewolucji konstrukcji chipów, technologia trawienia stale postępuje w kierunku rozwoju 3D, a układanie w pionie pozwala na bardziej efektywne wykorzystanie przestrzeni. Jednakże wzrost liczby ułożonych warstw prowadzi do zwiększenia liczby cykli osadzania i czasu trawienia, co pociąga za sobą konieczność wzrostu liczby wymaganych maszyn.

Innymi słowy, w miarę wzrostu dostaw EUV, jednocześnie na tym skorzysta TEL. Firma ujawniła również, że utworzył już centrum badawczo-rozwojowe na Tajwanie i wkrótce rozbuduje swoje pomieszczenia czyste, aby współpracować z producentami najbardziej zaawansowanych procesów.

W połączeniu z partnerskimi maszynami Litho (litografia) TEL ma prawie 100% udziału w rynku powlekania/rozwoju. Według Commercial Times obecnie TEL działa w 19 krajach i ma łącznie 87 lokalizacji.

Ponieważ przemysł półprzewodników wkracza w erę angstremów, fabryki w coraz większym stopniu polegają na precyzji sprzętu, na co TEL odpowiednio się przygotował. Najnowszy produkt TEL, Grinder, został zaprojektowany nie tylko w celu zapewnienia płaskości płytek, ale także uzyskania częściowej płaskości po trawieniu i oczyszczeniu powierzchni. Dzięki temu sprzęt może skutecznie mierzyć płaskość i czystość wafli.