Nikon rzuca wyzwanie ASML – nowa litografia ArF już w 2028 roku

Nikon planuje ponownie zaistnieć na rynku zaawansowanej litografii półprzewodnikowej i ogłasza plany wprowadzenia nowego systemu litografii zanurzeniowej ArF w roku fiskalnym 2028. Firma chce zmniejszyć dystans do dominującego gracza – ASML, który kontroluje około 90% tego rynku.

Jak podaje japoński dziennik Nikkan Kogyo Shimbun oraz serwis BITS&CHIPS, Nikon współpracuje z producentami półprzewodników nad opracowaniem nowego systemu, który będzie kompatybilny z fotomaskami ASML. Ma to ułatwić klientom przejście na nową technologię. Pierwszy prototyp jest planowany na rok fiskalny 2028, a kolejne generacje mają pojawić się po 2030 roku.

Dane z rynku wskazują, że Nikon sprzedał w roku fiskalnym 2024 jedynie 11 systemów litografii ArF, a w pierwszych trzech kwartałach 2025 roku – żadnego. Globalnie rocznie sprzedaje się mniej niż 100 zaawansowanych systemów optycznej litografii, co podkreśla trudności, z jakimi zmaga się firma. Mimo to prognozy przewidują wzrost rynku ArF o 40-50% w ciągu najbliższej dekady, głównie dzięki rosnącemu zapotrzebowaniu na układy 3D DRAM i logikę nowej generacji.

Japońska konkurencja – Canon wchodzi do gry

Nikon nie jest jedyną japońską firmą, która chce przełamać monopol ASML. We wrześniu 2024 roku Canon zaprezentował swój system litografii nanoimprintowej (NIL) FPA-1200NZ2C, który zamiast tradycyjnej projekcji wykorzystuje bezpośrednie nanoszenie wzorów obwodów. Technologia ta pozwala na odwzorowanie struktur o szerokości linii 14 nm, co odpowiada węzłowi 5 nm, a w przyszłości może być stosowana do produkcji chipów 2 nm. Dodatkowym atutem rozwiązania Canona jest niższe zużycie energii i koszty operacyjne w porównaniu do klasycznej litografii optycznej.

Czy Nikon i Canon mogą zagrozić dominacji ASML?

Holenderski ASML pozostaje liderem rynku dzięki swojej technologii EUV (Extreme Ultraviolet), wykorzystywanej do produkcji najbardziej zaawansowanych układów scalonych. Nikon i Canon starają się jednak znaleźć alternatywne rozwiązania, które mogą zyskać na popularności, zwłaszcza w czasie rosnących kosztów i trudności technicznych związanych z dalszym zmniejszaniem procesu litograficznego.

Sukces Nikona w dużej mierze będzie zależał od zdolności do przyciągnięcia klientów, którzy obecnie korzystają z rozwiązań ASML. Kompatybilność z istniejącymi fotomaskami może ułatwić adopcję nowego systemu, ale kluczowe będą także wydajność, cena oraz wsparcie dla przyszłych technologii.