Chiny przyspieszają prace nad krajową litografią DUV. Huawei ma pełnić rolę koordynatora

Huawei ma odgrywać główną rolę w chińskim programie rozwoju krajowych maszyn litograficznych DUV, koordynując współpracę producentów sprzętu, dostawców komponentów i fabryk półprzewodników. Według ustaleń „Financial Times” szanghajska firma Yuliangsheng planuje wyprodukować do końca 2026 roku 12 takich systemów. Informacje nie zostały oficjalnie potwierdzone przez zainteresowane firmy.

Według źródeł FT Huawei nie ogranicza się do finansowania firm rozwijających technologie półprzewodnikowe. Koncern ma również koordynować prace pomiędzy dostawcami podzespołów, producentami maszyn oraz fabrykami, które testują nowe rozwiązania. Analitycy Bernstein określają rolę firmy jako zbliżoną do „project managera” chińskiego programu DUV.

Najbardziej zaawansowane prace prowadzi obecnie Yuliangsheng. Jej systemy są testowane przez SMIC oraz na liniach firm powiązanych z Huawei. Maszyny mają początkowo pracować przy mniej wymagających układach, a ich długoterminowym celem jest wykorzystanie w produkcji zaawansowanych chipów, w tym procesorów AI.

SMIC już wcześniej testował krajową maszynę przeznaczoną dla procesu klasy 28 nm. Zastosowanie wielokrotnej ekspozycji może pozwolić na wykonywanie struktur odpowiadających około 7 nm, ale kosztem większej liczby etapów produkcyjnych, trudniejszego pozycjonowania warstw i niższej wydajności. Reuters informował w lipcu, że chińskie systemy immersyjnego DUV zaczynają wychodzić poza etap pojedynczych prototypów.

Do ASML wciąż daleka droga

Postęp nie oznacza jednak, że Chiny stworzyły już pełną alternatywę dla sprzętu ASML. Według FT maszyny Yuliangsheng nadal wykorzystują m.in. elementy optyczne firmy Zeiss. Problemem pozostają również odpowiednio wydajne źródła światła. Huawei próbuje zamykać te luki poprzez inwestycje w lokalnych producentów. Fundusze powiązane z koncernem zainwestowały m.in. w Fujian Zhiqi Photonics, rozwijający precyzyjną optykę, oraz Beijing Keyi Hongyuan, pracujący nad laserowymi źródłami światła dla litografii.

Chińskie fabryki nadal wykorzystują maszyny ASML do właściwej produkcji najbardziej zaawansowanych układów. Według przywoływanych przez FT szacunków osiągnięcie przez krajowe systemy porównywalnej produktywności może zająć kilka lat. Projekt ma znaczenie strategiczne, bo ograniczenia eksportowe odcinające Chiny od EUV i części najbardziej zaawansowanych systemów DUV stworzyły silną zachętę do budowy własnego łańcucha dostaw. Nawet maszyny technologicznie słabsze od sprzętu ASML mogą z czasem zmniejszać podatność chińskiego przemysłu półprzewodnikowego na kolejne sankcje.