Opóźnienia budowy fabryk półprzewodników w USA ma konsekwencje dla całego łańcucha dostaw

Chociaż niektóre opóźnienia mogą mieć charakter tymczasowy, inne projekty budowy fabryk są poddawane ponownej dokładnej ocenie i nie posiadają określonego harmonogramu wznowienia.

Według raportu Nikkei Asia, powołującego się na oświadczenia kilku źródeł branżowych, wynika, że budowa tych fabryk została albo przełożona, albo znacznie ograniczona ze względu na gwałtownie rosnące koszty materiałów budowlanych i robocizny, a także niedobór pracowników budowlanych.

Opóźnienia w planach budowy fabryk przypisuje się wolniejszemu niż oczekiwano postępowi firm Intel i TSMC w konfigurowaniu swoich obiektów. Źródła cytowane w raporcie ujawniły również, że Solvay, wiodący dostawca nadtlenku wodoru o wysokiej czystości do zastosowań w półprzewodnikach z siedzibą w Belgii, odłożył budowę swojej fabryki w Arizonie ze względu na koszty i obawę, że postęp ekspansji Intela i TSMC może potrwać dłużej niż oczekiwano.

Podobnie inny duży producent nadtlenku wodoru o wysokiej czystości do półprzewodników, tajwańska grupa Chang Chun, znacznie ograniczyła budowę swojej nowej fabryki w Arizonie ze względu na koszty, które kilkakrotnie przekroczyły oczekiwania. W odniesieniu do tej kwestii grupa Chang Chun podobno zdecydowała się nie przekazywać komentarzy, natomiast firma Solvay wspomniała, że obecnie bada sprawę.

Według raportu, powołującego się na swoje źródła, TSMC pierwotnie planowało rozpocząć masową produkcję w swojej fabryce w Arizonie w 2024 r. Jednak obecnie ten harmonogram został przesunięty na 2025 r. Powstanie drugiej fabryki z kolei przewidywano na 2026 r., ale obecnie tę datę przesunięto na lata 2027–2028.

Ze względu na wyjątkową strukturę federalną Stanów Zjednoczonych, budowa odlewni musi być zgodna z przepisami federalnymi, stanowymi i lokalnymi, co skutkuje wyjątkowo złożonym procesem regulacyjnym. Dodatkowo, polityka środowiskowa stwarza przeszkody w budowie odlewni, szczególnie ze względu na rygorystyczne wymagania w zakresie ochrony środowiska.